微細構造素子製造装置及び微細構造素子生産方法

特願2007-227281

　本発明では、分子線エピタキシー法などの原料蒸着型薄膜成長の際に用いる金属製マスクについて、独自な機構等を加えた。
　その結果、選択成長領域の基板に対する方位、位置合わせの精度、再現性が確保しやすく、１枚の基坂上にモノリシックに、数種類の特性を持った微細構造を近接領域に交互に配列させることができる微細構造素子製造装置を実現させた。

　

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