フォトレジスト除去装置

特願2007-145786

 

　 半導体基板に残存したレジストを基板表面全体に均一に、損傷を与えることなく、単位体積当たりのオゾン水のフォトレジストへの反応効率を上げて効果的に剥離、除去する。フォトレジスト除去装置は、回転支持台と、洗浄ノズルと、高濃度オゾン水供給装置とを備え、洗浄ノズルは、高濃度オゾン水を注入する円筒管と、円筒管の下端に取り付けられた透明円盤とを有し、透明円盤は、回転支持台に支持された基盤に対して一定の隙間を介して対向するように配置されており、円筒管から注入される高濃度オゾン水を、基板表面において厚さの均一な薄液膜として放射方向に流しながらエキシマー光を透明円盤を透過させて基板表面に照射することにより、基板表面に残存しているフォトレジストを除去する。

 

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